艾锐孚(上海）新材料科技有限公司-华东地区化工原料与特种新材料代理供应商,住友化学光刻胶材料华东地区经销商，原厂原包，以优越的品质，合理的价格以及完善的售前售后服务得到新老客户的大力支持和好评，公司致力于化工产品和特种新材料产业的前沿技术和销售，联合众多进口化工品牌为客户打造最为舒适的服务。

住友化学的光刻胶产品线丰富，可对应i线、KrF准分子激光、ArF准分子激光、液浸式ArF准分子激光、电子束等各种曝光工艺，与此同时不断追求更高的性能。

线用光刻胶产品类型齐全，可匹配各种用途；先进工艺的液浸式ArF光刻胶可配合客户的研发速度，提供兼具品质稳定性和超高分辨性能的产品，为半导体元件的发展作出贡献。

此外，我们还提供各种新用途的高性能、高品质产品。如日益高集成/大容量化的三维闪存生产及半导体元件封装工艺中使用的厚膜光刻胶等。同时，我们可对应下一代先进生产工艺的EUV光刻胶已研发成功并量产。

住友化学光刻胶 Sumitomo SUMIRESIST PFI-58 性能特点：

住友化学光刻胶（SUMIRESIST）以全波段覆盖、高分辨率、低缺陷、高稳定性为核心特点，在浸没式 ArF 与 EUV 先进制程中优势显著，同时拥有成熟制程的完整解决方案。

超高分辨率与图形精度
ArF 浸没胶：适配NA>1.35，分辨率可达38nm，配合多重图形技术支持 7nm 制程。
EUV 胶：分子级设计，LWR 控制在2nm 内，满足 3nm 及以下节点。
对比度高：化学放大体系（CAR），曝光能量敏感度高，图形侧壁陡峭、边缘粗糙度低。
高纯度与低缺陷密度
金属离子≤0.1ppb、有机杂质≤5ppm，满足 EUV 洁净要求。
分子量分布窄（Mw/Mn≈1.05–1.1），膜厚均匀性优异，批次一致性达99.9%。
优异的工艺稳定性
耐热性：**>150℃** 高温下图形稳定，适配多层光刻与干法刻蚀。
耐化学性：抗显影液 / 刻蚀气体侵蚀，减少图形畸变与缺陷。
低酸扩散：精准控制光致产酸剂（PAG）扩散，线宽偏差小、工艺窗口宽。
高感光度与生产效率
ArF/EUV 胶：感光灵敏度≤20–30mJ/cm²，提升产能、降低能耗。
i 线 / KrF 胶：通用型高感度，适配量产线高吞吐量需

住友化学光刻胶覆盖全波段制程，兼具高分辨率、高纯度与优异稳定性，是高端芯片量产的可靠之选。

【 住友化学光刻胶 Sumitomo SUMIRESIST PFI-58 采购指南 】
核心优势
正品承诺:住友化学授权经销商|原厂原包|假一罚十
资质齐全:可提供COA/MSDS/SGS/UL黄卡及物性参数
财税合规:一对一开具13%增值税专用发票
灵活采购:1KG起订|部分型号支持散货供应
高效物流
合作物流:顺丰/德邦/安能/百世等全网覆盖
发货时效:当天下单当日发|全国直达
支付方式:电汇
运输保障:专业包装+全程物流追踪
质量保障
1到货验收:请当场查验外包装完整性
2异常处理:如遇破损/泄漏，请要求物流人员现场签认并留存证据
3售后响应:24小时内联系客服，专业团队全程跟进温馨提示
价格动态:原料行情实时波动，报价请致电确认
验厂服务:欢迎预约实地考察，见证供应链实力
长期合作:提供定制化采购方案，助力降本增效服务承诺
以品质求生存以信誉谋发展
诚信经营价格优势技术赋能

艾锐孚(上海）新材料科技有限公司供应住友化学光刻胶Sumitomo系列型号；

一、i 线光刻胶（SUMIRESIST 系列，PFI/PXi/NX/PFM 系列）
住友化学（Sumitomo）PFI-55 酚醛树脂基 i 线正胶，高对比度宽工艺窗口，用于 0.5μm-1μm 分立器件、PCB、成熟制程
住友化学（Sumitomo）PFI-27 高感度厚膜 i 线正胶，膜厚 3-4μm，用于功率器件、MEMS、传感器
住友化学（Sumitomo）PFI-241 厚膜 i 线正胶，膜厚 4-5μm，高宽比，用于封装凸块、电镀工艺
住友化学 SUMIRESIST PFI-27，超高感度厚膜型、高残膜率，用于 3–4μm 厚膜光刻、MEMS 及封装保护层图形加工
住友化学 SUMIRESIST PFI-38，高分辨率高感度、线条形貌优异，用于 1.5–2μm 线宽半导体金属布线与钝化层开窗
住友化学 SUMIRESIST PFI-55，通用超高分辨率、兼容性强缺陷少，用于 1.2–2.0μm 逻辑芯片、接触孔及金属层光刻
住友化学 SUMIRESIST PFI-58，薄膜专用超高分辨率、边缘垂直度好，用于 0.8–1.5μm 超薄层高精度图形与 MEMS 器件
住友化学 SUMIRESIST PFI-66，适配 BARC 工艺、高对比度抗反射匹配佳，用于高反射铝 / 铜基板搭配抗反射层光刻
住友化学 SUMIRESIST PFI-88，BARC 及金属制程专用、耐干法刻蚀低缺陷，用于多层金属布线与介质层开孔
住友化学 SUMIRESIST PFI-89，高感度高分辨率兼顾、显影宽容度大，用于中小尺寸芯片及功率器件量产光刻
住友化学 SUMIRESIST PFI-92，接触孔专用、孔形圆整深宽比优，用于 Contact Hole 接触孔及通孔阵列光刻
住友化学 SUMIRESIST PFI-93，超薄膜超高分辨率、均匀性 ，用于 0.8μm 以下薄膜精细图形与高精度 MEMS
住友化学 SUMIRESIST PFI-99，高分辨率高耐热、耐刻蚀性强，用于 1.5–2μm 离子注入与干法蚀刻掩模
住友化学 SUMIRESIST PFI-900，低应力高平坦化、多层制程适配，用于多层光刻、薄膜器件及封装再布线层
住友化学 SUMIRESIST PFI-910，低缺陷金属层专用、高残膜率，用于铝 / 铜金属层光刻及功率半导体钝化开窗

住友化学（Sumitomo）PFM-300 抗反射底涂专用 i 线光刻胶，与 BARC 适配，提升图形精度，用于 0.35μm-0.5μm 逻辑芯片
住友化学（Sumitomo）PXi 系列 化学放大型 i 线厚膜光刻胶，高分辨率低缺陷，用于先进封装 RDL、TSV 图形化
住友化学（Sumitomo）NX 系列 i 线负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于接触孔、通孔、存储器件隔离层

二、KrF（248nm）光刻胶（PEK/NEK 系列）
住友化学（Sumitomo）PEK 系列  KrF 正性光刻胶，工艺稳定良率高，用于 130nm-180nm 逻辑、DRAM、Flash 量产
住友化学（Sumitomo）PEK-1000 标准 KrF 正胶，130nm 节点通用，用于通用逻辑与模拟芯片
住友化学（Sumitomo）PEK-2000 高分辨率 KrF 正胶，90-110nm 节点，线宽均匀性优，用于先进逻辑、低功耗芯片
住友化学（Sumitomo）PEK-3000 低 LER KrF 光刻胶，高密度图形优化，用于 90nm 存储、精细线路
住友化学（Sumitomo）NEK 系列 KrF 负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于接触孔、通孔、存储器件特殊结构

三、ArF（193nm）光刻胶（PAR 系列，干式 / 浸没式）
住友化学（Sumitomo）PAR 系列  ArF 干式 / 浸没式光刻胶，工艺窗口宽，用于 65-120nm 逻辑、CIS、成熟制程
住友化学（Sumitomo）PAR-1000 ArF 干式正胶，90-120nm 通用，对标 JSR AR2772JN，用于通用逻辑与 CIS
住友化学（Sumitomo）PAR-2000 高分辨率 ArF 干式胶，65-80nm 节点，用于关键层图形化
住友化学（Sumitomo）PAR-i3000 ArF 浸没式正胶，28-65nm 节点，高分辨率低 LER，用于先进逻辑、高端 CIS
住友化学（Sumitomo）PAR-i4000 高 NA ArF 浸没式胶，14-28nm 节点，RLS 平衡优，用于移动芯片、AI 核心芯片

四、EUV 光刻胶（EBS/ES 系列）
住友化学（Sumitomo）EBS 系列 EUV 光刻胶，7nm 节点通用，高稳定性，用于台积电 / 三星先进逻辑制程
住友化学（Sumitomo）ES 系列 EUV 光刻胶，5nm 节点高感度，低缺陷高良率，用于 GAA 结构、高端 AI 芯片

1.偏光膜（SUMIKALAN 系列）
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 标准型偏光膜：高对比度、宽视角，用于 LCD / 液晶显示器面板。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 高亮度型偏光膜：提升面板亮度，用于笔记本、桌面显示器。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALANOLED 用圆偏光膜：抗反射、低反光，用于有机 EL/OLED 显示器件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 超薄型偏光膜（0.1mm）：薄型轻量化，用于手机、平板等便携设备。
住友化学（Sumitomo）SUMIKALAN 高耐久型偏光膜：耐温耐湿，用于车载、工业级显示面板。

2. 显示器用化学品
住友化学（Sumitomo）彩色光阻剂（DyBright 系列）：染料型配方，高亮度高色彩再现，用于彩色滤光片（CF）。
住友化学（Sumitomo）Cu-Etchant 铜蚀刻剂：针对铜配线均匀蚀刻，用于显示面板金属线路加工。
住友化学（Sumitomo）Al-Etchant 铝蚀刻剂：适配铝电极线路，用于 TFT-LCD 面板。
住友化学（Sumitomo）ITO-Etchant 氧化铟锡蚀刻剂：透明电极蚀刻，用于触摸屏、OLED 面板。
住友化学（Sumitomo）Stripper 系列剥离液：光刻胶 / 干膜剥离用，适配后段显示面板工艺。

3. 半导体用化学品
住友化学（Sumitomo）显影液 / 冲洗液系列：高纯度低颗粒，适配 i 线 / KrF/ArF 光刻胶，用于晶圆光刻后清洗。
住友化学（Sumitomo）蚀刻剂系列：用于半导体晶圆湿法蚀刻，兼容硅、氧化硅、金属层。
住友化学（Sumitomo）硬化胶剥离液：适配离子注入 / 电镀后硬化胶，用于高污染晶圆工艺。

4. 光刻胶（SUMIRESIST 系列）
住友化学（Sumitomo）PFI-55：通用 i 线正胶，0.5-1μm 成熟制程主力，分立器件 / PCB / 模拟芯片通用。
住友化学（Sumitomo）PFI-245：厚膜 i 线正胶，4-5μm，封装凸块、电镀、MEMS 专用。
住友化学（Sumitomo）PFM-300：i 线抗反射底涂专用胶，适配 BARC，提升图形精度。
住友化学（Sumitomo）PXi 系列：化学放大型 i 线厚膜胶，高分辨率低缺陷，用于先进封装 RDL/TSV。
住友化学（Sumitomo）NX 系列：i 线负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于接触孔 / 通孔 / 存储隔离层。
住友化学（Sumitomo）PEK-642：通用 KrF 正胶，130-180nm 逻辑 / DRAM/Flash 量产主力。
住友化学（Sumitomo）PEK-1000：90-110nm 节点 KrF 胶，良率稳定，台积电 / 三星成熟线常用。
住友化学（Sumitomo）PEK-2000：高分辨率 KrF 胶，90-110nm 先进逻辑 / 低功耗芯片专用。
住友化学（Sumitomo）NEK 系列：KrF 负性光刻胶，高对比度抗刻蚀，用于特殊结构 / 通孔工艺。
住友化学（Sumitomo）PAR-1000：ArF 干式正胶，90-120nm 通用，对标 JSR AR2772JN，逻辑 / CIS 主力。
住友化学（Sumitomo）PAR-2000：高分辨率 ArF 干式胶，65-80nm 节点关键层图形化。
住友化学（Sumitomo）PAR-i3000：ArF 浸没式正胶，28-65nm 节点，低 LER 高良率，先进逻辑 / 高端 CIS 用。
住友化学（Sumitomo）PAR-i4000：高 NA ArF 浸没胶，14-28nm 节点，RLS 平衡优，移动 / AI 芯片用。
住友化学（Sumitomo）EBS 系列：EUV 光刻胶，7nm 节点通用，高稳定性，台积电 / 三星先进制程用。
住友化学（Sumitomo）ES 系列：EUV 高感度光刻胶，5nm 节点，低缺陷高良率，GAA 结构 / 高端 AI 芯片用。

二、能源功能材料
1. 超级工程塑料（SUMIKASUPER LCP 系列）
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E4006：20% 玻纤增强 LCP，通用注塑级，用于连接器、精密电子部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E4008：30% 玻纤增强 LCP，食品级 / 医疗级，用于医疗器械、食品容器。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E5008L：40% 玻纤超高流动 LCP，薄壁成型，用于消费电子微型部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E6006L：低翘曲高流动 LCP，用于精密连接器、接插件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E6807HF：高流动低翘曲 LCP，用于 5G 天线、高频电子部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER E7008：高耐热 LCP，汽车电子、电源模块专用。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER SR300/SR500：低摩擦耐磨 LCP，用于轴承、齿轮、运动部件。
住友化学（Sumitomo）SUMIKASUPER A130：低粘度入门级 LCP，用于微型连接器、引脚。

2. 医疗用聚烯烃
住友化学（Sumitomo）医用级聚丙烯 / 聚乙烯系列：高纯度低析出，用于输液管、注射器、医疗包装。
住友化学（Sumitomo）医用级弹性体：耐灭菌、生物相容性优，用于导管、密封件。

3. 树脂改性剂
住友化学（Sumitomo）SUMIPLOY 系列聚合物合金：高性能增韧 / 耐磨改性剂，提升塑料抗冲击、耐摩擦性能。
住友化学（Sumitomo）相容剂系列：改善不同树脂相容性，用于工程塑料共混改性。

4. 间苯二酚
住友化学（Sumitomo）高纯度间苯二酚：工业级 / 电子级，用于橡胶助剂、粘合剂、树脂合成原料。

5. 锂电池隔离膜（PERVIO 系列）
住友化学（Sumitomo）PERVIO TSP 芳纶涂覆隔膜：高耐热高安全性，用于动力电池 / 消费电子锂电池。
住友化学（Sumitomo）PERVIO 标准型隔膜：常规聚烯烃基，用于手机 / 笔记本等消费电子锂电池。
住友化学（Sumitomo）PERVIO 高安全性隔膜：耐穿刺耐收缩，用于电动汽车动力电池。